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前工程洗浄装置

半導体をはじめ、MEMS、化合物等、幅広い分野のウェットプロセス処理で豊富な経験があり、ユーザーのニーズに合わせた最適なカスタム装置を提供します。また、薬液供給装置など各種付帯設備の設計、製造も承ります。

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​バッチ式洗浄装置

◇対応プロセス

　RCA洗浄・窒化膜除去・酸化膜除去・ポリマー除去・レジスト剥離・シリコンエッチング・犠牲層エッチング・メタルエッチング・現像

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◇多槽式キャリアレス・バッチ式洗浄装置

  • ワークサイズは、6インチ、８インチ、12インチウェハに対応

  • キャリアレス搬送により成膜前洗浄などの高清浄度な洗浄に対応

  • 薬液や純水の使用量を大幅に削減

  • フットプリントを大幅に縮小

  • １バッチの搬送枚数として50枚、25枚、13枚をラインナップ

  • 酸系薬液用処理、アルカリ系薬液用処理、有機系薬液用処理の各プロセスによる装置構成が可能

  • 乾燥はIPA乾燥、温水引き上げ・IR乾燥、マランゴニ乾燥から選択

  • ローダー、アンローダーはカセットまたはFOUPに対応

 

◇多槽式キャリアタイプ・バッチ式洗浄装置

  • ワークサイズは、２インチから12インチウェハに対応

  • １バッチの搬送カセット数は１カセットまたは２カセットから選択

  • 酸系薬液用処理、アルカリ系薬液用処理、有機系薬液用処理の各プロセスによる装置構成が可能

  • 乾燥はスピンドライヤ、IPA乾燥から選択

  • ローダー、アンローダーのカセット数はご要望に応じて対応可能

枚葉式洗浄装置

多彩なチャンバー形態で、様々なプロセスニーズに対応した枚葉式洗浄装置

  • ワークサイズは、２インチ～12インチウェハに対応

  • ５００mm□までの角基板にも対応可能（要ご相談）

  • 酸系薬液用処理モジュール、アルカリ系薬液用処理モジュール、有機系薬液用処理モジュールの各プロセスモジュールによる装置構成が可能

  • 超音波スプレーノズル、二流体スプレーノズル、高圧JETノズル、オゾン水なども搭載可能で、用途に合わせた処理が可能。

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